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铌(Nb)靶材

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  • 技术参数
铌旋转靶采用真空熔炼工艺,尺寸根据客户要求定制。
铌平面靶采用真空熔炼工艺, 尺寸可根据客户要求加工。
纯度:99.95-99.999%
应用领域:薄膜太阳能工业,低辐射玻璃工业,平板显示工业,光学镀膜工业,工具及装饰镀膜工业