主要靶材：Si、 SiB、 SiO2、 Nb、 Nb2OX、 Ti、 TiOX、 Al、 Cr、 Zr、 Hf、 Ta、 Ge

蒸镀材料：MgF2、 Nb2O5、 Al2O3、 Ta2O5、 HfO2、Ti3O5、 SiO2/AI2O3、 H4、 YbF3、 SiO2、 TiO2、 ZrO2

以上靶材是光学薄膜沉积的关键材料，可为各类光学元件提供高均匀性、高致密度及稳定性膜层，在光学增透镀膜、光通信镀膜及光学玻璃镀膜等多个细分领域发挥重要作用。

1. 光学增透镀膜

高纯度靶材沉积的薄膜可有效降低表面反射、提高透光率，广泛应用于镜头、摄像头、显示器及光伏玻璃等器件，显著改善成像质量与光能利用效率。

2. 光通信镀膜

靶材沉积的低损耗、高稳定性薄膜适用于光纤、波导及滤波器等光通信元件，提升信号传输效率和系统可靠性，满足高速、大容量通信需求。

3. 光学玻璃镀膜

靶材用于光学玻璃的增透、防反射、防刮擦及滤光膜层制备，不仅提升玻璃光学性能和耐久性，还可实现防紫外、减反射、耐腐蚀等功能，适用于科研、医疗和消费电子等场景。