主要靶材：Cu、Ti、Al、RPD材料、Yb、Ni、Ag、ITO、ZrO2、H4

能够沉积高纯度、高均匀性、致密稳定的膜层，实现优异的光学、电学及机械性能。高性能靶材在薄膜制备过程中保证材料的一致性和稳定性，为平板显示、光学、光伏、半导体、功能薄膜等领域提供可靠的材料基础。

1. RPD靶材应用

靶材在RPD工艺中用于高精度薄膜沉积，可实现低电阻、高透过率及高均匀性的膜层，满足大面积显示、触控屏及光学器件的严格性能要求。同时，高稳定性靶材可支持大规模量产和重复加工，提高生产效率。

2. 蒸镀材料应用

靶材可用于物理气相沉积（PVD）或真空蒸镀工艺，制备光学薄膜、导电膜及功能膜层。高纯度、高致密度靶材保证膜层均匀性、附着力和化学稳定性，广泛应用于显示面板、太阳能电池、光学器件、功能玻璃及装饰镀膜等高端领域。

重要作用