钨碳靶材是由高熔点、高硬度的钨与优异耐磨的碳按一定比例复合制备而成的一类功能靶材，具有极高的致密度与均匀性。它主要用于磁控溅射、离子镀膜等真空镀膜工艺中，用于制备具有优异性能的薄膜材料。

钨碳靶材核心优势

• 高硬度与耐磨性

  钨与碳的结合形成类碳化物结构，制得的薄膜硬度高、耐磨损性强，适合承受高负荷和恶劣工况。

• 高熔点、耐高温

  钨的熔点高达3410℃，碳也有极强的耐高温性能，使靶材和镀层在高温环境下仍能保持稳定。

• 优良的附着力与抗压强度高

  沉积的膜层与基材结合牢固，同时具备良好的化学稳定性，延长器件寿命。

钨碳靶材的主要应用领域

1.  硬质涂层

   广泛用于工具、模具、刀具的表面硬质涂层，如WC、W-C类薄膜，提高刀具耐磨性和使用寿命。

2. 半导体制造

   可作为阻挡层、导电层或功能层材料，在半导体元器件和微机械系统（MEMS）中制备性能稳定的薄膜。

3. 能源领域

   在太阳能电池制造中，碳化钨靶材可用于沉积反射层或导电层，提高器件效率。在核能设备中，可作为耐高温、抗辐射材料，用于核反应堆或高能场合。此外，在热电材料中，碳化钨靶材可用于能源转换设备，提升热能利用效率。