产品介绍
钨碳靶材是由高熔点、高硬度的钨与优异耐磨的碳按一定比例复合制备而成的一类功能靶材,钨碳靶材具有极高的致密度与均匀性。钨碳靶材主要用于磁控溅射、离子镀膜等真空镀膜工艺中,钨碳靶材用于制备具有优异性能的薄膜材料,是多领域高端功能性镀膜的核心复合靶材。
钨碳靶材核心优势
高硬度与耐磨性
钨碳靶材中钨与碳的结合形成类碳化物结构,钨碳靶材制得的薄膜硬度高、耐磨损性强,钨碳靶材适合承受高负荷和恶劣工况,提升终端产品的耐用性,满足严苛防护需求。
高熔点、耐高温
钨碳靶材中的钨熔点高达3410℃,碳也有极强的耐高温性能,这使得钨碳靶材和钨碳靶材镀层在高温环境下仍能保持稳定,凸显钨碳靶材的高温适配优势,适配高温镀膜工艺。
优良的附着力与抗压强度高
钨碳靶材沉积的膜层与基材结合牢固,钨碳靶材同时具备良好的化学稳定性,钨碳靶材可延长器件寿命,保障钨碳靶材溅射膜层的服役稳定性,提升应用可靠性。
钨碳靶材的主要应用领域
硬质涂层
钨碳靶材广泛用于工具、模具、刀具的表面硬质涂层,如WC、W-C类薄膜,钨碳靶材可提高刀具耐磨性和使用寿命,成为硬质涂层领域不可或缺的核心靶材,适配高端制造加工需求。
半导体制造
钨碳靶材可作为阻挡层、导电层或功能层材料,钨碳靶材在半导体元器件和微机械系统(MEMS)中制备性能稳定的薄膜,钨碳靶材保障半导体器件的稳定性和可靠性,适配半导体先进制程需求。
能源领域
在太阳能电池制造中,钨碳靶材可用于沉积反射层或导电层,钨碳靶材提高器件效率;在核能设备中,钨碳靶材可作为耐高温、抗辐射材料,钨碳靶材用于核反应堆或高能场合;此外,在热电材料中,钨碳靶材可用于能源转换设备,钨碳靶材提升热能利用效率,全面拓展钨碳靶材的新能源应用场景。
技术特性

纯度
99.9%-99.95%
应用场景
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