石墨靶材的优异特性

• 高热稳定性

  石墨靶材在高功率、高温溅射工艺中仍能保持稳定性能，保证石墨靶材薄膜沉积均匀，凸显石墨靶材的高温适配优势，适配严苛溅射场景。

• 低热膨胀系数

  石墨靶材在温度变化下尺寸稳定，减少沉积应力，提升膜层致密性和附着力，进一步保障石墨靶材的溅射品质，满足高端镀膜需求。

• 优良导电性

  石墨靶材导电性能良好，适合制备电子器件、功能薄膜及导电层，彰显石墨靶材的电学优势，拓展石墨靶材的应用场景。

石墨靶材的广泛应用

1. 半导体制造

   石墨靶材用于制备导电薄膜、碳阻挡层和互连层，石墨靶材可保证器件的高性能和稳定性，适配半导体高端制造的严苛要求。

2. 光学器件制造

   石墨靶材用于碳薄膜、抗反射膜和红外吸收膜的制备，广泛应用于光学元件、激光器件及红外窗口，提升光学器件的核心性能。

3. 光伏行业

   石墨靶材用于光伏电池背电极、燃料电池碳层以及超级电容器导电层，石墨靶材能提升能源转换效率和器件寿命，助力光伏产业高效发展。

4. 航天航空

   石墨靶材沉积的膜层可作为高温保护涂层，石墨靶材能提高航天航空部件的耐热性和耐磨性，保障部件在极端环境下稳定运行。