镍钒靶材(NiV)

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金属靶材

镍钒靶材(NiV)

高纯度
耐腐蚀性
良好的物理性能
细晶粒结构

产品介绍

镍钒靶材是由高纯镍(Ni)和钒(V)合金制成的功能性靶材,广泛应用于物理气相沉积(PVD)及溅射镀膜工艺中。其核心优势源于镍、钒元素的协同赋能,依托镍的优异导电性和耐腐蚀性,以及钒的高硬度和耐氧化特性,能够沉积出高硬度、致密且耐磨的薄膜层,满足光学、电子、光伏及工业功能性涂层等多领域对性能的严格要求,是多领域功能性镀膜的核心合金靶材,兼具高纯品质与多场景适配性。

镍钒靶材核心优势

  • 高纯度

    镍钒靶材纯度普遍达 99.95%(3N5)至 99.999%(5N),其中杂质如 Cr、Al、Mg 需控制在 10ppm 以下,部分场景要求 U/Th≤1ppb,高纯度特性可保证薄膜质量,无杂质干扰,满足高端镀膜工艺的严苛要求,彰显其核心品质优势,是高端功能性薄膜制备的核心前提。

  • 耐腐蚀性

    镍钒靶材在酸、碱及高温环境下表现稳定,适用于严苛的工况条件,可有效延长自身使用寿命和膜层服役周期,大幅提升应用可靠性,适配多领域复杂环境下的长期使用需求。

  • 良好的物理性能

    镍钒靶材密度约为 8.0–8.9 g/cm³,熔点约 1350℃,热膨胀系数为 1.2×10⁻⁵/℃,这些优异的物理性能使得其在不同环境下能保持较好的稳定性,无需复杂适配即可满足多场景镀膜需求,拓宽其应用范围。

  • 细晶粒结构

    经过特殊的制备工艺,镍钒靶材的晶粒度≤150μm,晶粒细小且分布均匀,可确保溅射薄膜的均匀性,同时也有利于提高其溅射速率,提升规模化生产效率,适配工业大规模镀膜需求。


镍钒靶材的主要应用领域

  1.  集成电路

    在集成电路制作中,一般用纯金作表面导电层,但金与硅晶圆容易生成低熔点化合物,导致界面粘结不牢固。镍钒靶材可一次完成溅射镍层(粘结层)和钒层(阻挡层),防止金 - 硅扩散,替代了传统的纯镍靶材,有效提高了集成电路的性能和稳定性,成为集成电路制造的关键材料,也是半导体领域核心镍钒靶材应用场景。

  2. 平板显示器

    镍钒靶材可用于平板显示器的镀膜,能够显著提高显示器的性能,如改善显示效果、增加屏幕的耐磨性等,适配高端平板显示制造需求,彰显其在显示领域的应用价值。

  3. 太阳能薄膜电池

    在太阳能薄膜电池领域,镍钒靶材可用于制备电极层,有助于提高太阳能电池的光电转换效率,助力光伏产业高效、绿色发展,成为光伏领域功能性镀膜的优选合金靶材。

  4. 航空航天

    由于镍钒靶材具有高强度和耐高温性能,可用于制造航空发动机、导弹部件等,能够满足航空航天领域对材料高性能的要求,精准适配航空航天极端高温、高负荷环境需求,是航空航天高端制造的关键耗材。

  5. 医疗领域

    镍钒靶材可用于制造医疗器械的涂层,为医疗器械提供耐磨、耐腐蚀和抗菌性能,有效提高医疗器械的使用寿命和安全性,拓展其高端应用场景,适配医疗领域的严苛要求。
  6. 建筑玻璃

    镍钒靶材用于大型建筑玻璃、汽车玻璃等的镀膜,可实现隔热、防紫外线、增加玻璃强度等功能,显著提升玻璃的性能和品质,适配建筑、汽车领域的功能需求,进一步拓宽其应用范围。


技术特性

  • 纯度

    纯度

    99.5%-99.999%

  • 配比

    配比

    常用比例:93:7(可定制比例)

应用场景

  •  集成电路

    集成电路

  • 平板显示器

    平板显示器

  • 航空航天

    航空航天

  • 建筑玻璃

    建筑玻璃

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