铂靶材是由高纯铂金属制成的靶材，常用于磁控溅射、蒸镀和离子镀等真空镀膜工艺。凭借铂自身极高的化学稳定性、耐腐蚀性及耐高温性能，它能够在苛刻工况下形成均匀致密的薄膜，为电子器件、光学元件及高端装饰品提供可靠材料基础。

铂靶材的优异特性

• 高化学稳定性

  铂几乎不与酸、碱、氧化剂反应，适合制备耐腐蚀薄膜和在恶劣环境下使用的器件。

• 耐高温性能优异

  熔点高达1768℃，薄膜和靶材在高温加工及高功率应用中仍保持稳定。

• 优异导电与导热性能

  保证沉积薄膜在电子器件和光电器件中具有高导电性和良好热管理能力。
  

• 高致密性与均匀性

  先进熔炼工艺确保靶材组织致密均匀，镀膜时膜层厚度一致性高，提升器件性能稳定性。

铂靶材的广泛应用

1. 光学镀膜

   用于高反射镜、光学滤光片、光通信镜片等元件，可提升透光率、反射均匀性与耐用性，确保光学系统长期稳定运行。

2. 装饰镀膜

   在珠宝、手表、手机、汽车内饰件等表面形成金属光泽膜，不仅美观高档，还具备耐磨、耐腐蚀和抗氧化性能。

3. 电子器件

   在半导体、电极、传感器及MEMS器件中用于制备导电膜和功能层，保证器件的电性能和长期稳定性。