产品介绍
铬,这种银白色过渡金属,在材料科学中占据着特殊的地位。其不仅因高硬度和卓越的抗腐蚀性而备受重视,而且在不锈钢制造、高强度合金、电镀和颜料制造等众多领域中发挥着关键作用。在薄膜材料和微电子行业,铬的重要性更是不言而喻。作为靶材,铬不仅提升了薄膜的均匀性和质量,也为高精度电子元件的生产提供了可靠保证。
铬旋转靶采用喷涂工艺,相对密度95%,制作简单高效、周期短、成本更具优势,可生产最大长度4000mm。
铬平面靶采用热压烧结绑定工艺,含氧量低,膜层亮度高,尺寸按客户要求定制。
铬靶材的优异特性
高硬度、高附着力
生成的铬膜层硬度高,附着牢固,抗磨损能力强
耐腐蚀性强
铬膜层对氧化和酸碱环境具良好抵抗力,适用于恶劣工况
良好的导电性与热稳定性
广泛用于电气元件与高温环境中的功能膜材料
铬靶材的广泛应用
技术特性

纯度
99.5%-99.95%

密度
7.19g/cm³
应用场景
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