铬靶材(Cr)

Cr target

众诚达

金属靶材

铬靶材(Cr)

高硬度
高附着力
耐腐蚀性强
良好的导电性

产品介绍

铬,这种银白色过渡金属,在材料科学中占据着特殊的地位。其不仅因高硬度和卓越的抗腐蚀性而备受重视,而且在不锈钢制造、高强度合金、电镀和颜料制造等众多领域中发挥着关键作用。在薄膜材料和微电子行业,铬的重要性更是不言而喻。作为靶材,铬不仅提升了薄膜的均匀性和质量,也为高精度电子元件的生产提供了可靠保证。

铬旋转靶采用喷涂工艺,相对密度95%,制作简单高效、周期短、成本更具优势,可生产最大长度4000mm。
铬平面靶采用热压烧结绑定工艺,含氧量低,膜层亮度高,尺寸按客户要求定制。

 

铬靶材的优异特性

  • 高硬度、高附着力

    生成的铬膜层硬度高,附着牢固,抗磨损能力强

  • 耐腐蚀性强

    铬膜层对氧化和酸碱环境具良好抵抗力,适用于恶劣工况

  • 良好的导电性与热稳定性

    广泛用于电气元件与高温环境中的功能膜材料


铬靶材的广泛应用

  1. 半导体制造

    提升封装器件的抗腐蚀、抗划伤能力,延长服役寿命,适配半导体小型化、高密度封装需求。

  2. 装饰层

    在装饰领域则应用于手表、家电等产品的真空镀铬,兼具美观与耐腐蚀性。‌‌

技术特性

  • 纯度

    纯度

    99.5%-99.95%

  • 密度

    密度

    7.19g/cm³

应用场景

  • 半导体制造

    半导体制造

  • 装饰层

    装饰层

联系我们

提 交