铝钪靶材(AlSc)

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金属靶材

铝钪靶材(AlSc)

低电阻率
均匀性
高纯度

产品介绍

铝钪靶材是由铝和钪两种金属元素按照一定比例合成的高性能溅射靶材,兼具铝的轻质、优良导电导热性与钪的稀土强化、晶粒细化和高温稳定性。其制备通常采用真空熔炼、粉末冶金与热等静压等工艺,成品具有组织致密、成分均匀、杂质含量低等特点,非常适合在高端薄膜沉积、半导体及显示面板制造领域使用。

铝钪靶材核心优势

  • 高强度与轻质

    铝钪合金中,钪的加入能显著抑制晶粒长大,形成细小的晶粒结构,从而提升材料的强度、韧性和抗疲劳性能,同时铝本身密度低,使得铝钪靶兼具高强度和轻质的特点。

  • 良好的热稳定性

    钪的高熔点为合金提供了优异的高温稳定性,铝钪合金靶在高温环境下不易发生化学反应或性能退化,能保持良好的物理和化学性能。

  • 优异的导电性

    铝钪合金薄膜具有低电阻率特性,能够在器件内形成高效的电流通道,其导电性虽略低于纯铝,但仍保持在较高水平,适合电子行业应用。

  • 抗腐蚀性强:

    铝钪合金的抗腐蚀性得益于铝在表面形成的氧化膜,以及钪的高化学稳定性,这使得合金在化学侵蚀环境中表现优异。
    良好的压电性能:当铝钪靶用于制备 Sc 掺杂的 AlN 薄膜时,可显著增强其压电性能,如掺杂 35 at% Sc 的 AlN 可以使压电性能 Keff² 提升至 15.5%,是纯 AlN 的 keff²(6%)的 2.6 倍。


铝钪靶材的主要应用领域

  1.  航空航天领域

    可用于制造飞机机翼、机身、发动机部件等,能显著减轻飞机整体重量,提高燃油效率和飞行性能。在卫星结构中,铝钪合金薄膜可提升卫星在外太空恶劣环境中的抗辐射和抗腐蚀能力。

  2. 电子工业领域

    在半导体制造中,通过磁控溅射等技术用铝钪靶在半导体基材表面形成均匀且致密的薄膜,可用于制造集成电路和存储设备。在光通信、移动通信设备中,铝钪靶沉积的薄膜可用于射频滤波器、光隔离器等关键部件。

  3. 光学与光电子领域

    铝钪靶通过溅射技术可生成具有高反射率和抗腐蚀性的光学薄膜,用于高端反射镜、滤波器和激光设备等。在光纤通信中,铝钪薄膜作为光纤包层材料,能有效提升光纤的耐用性和抗损性。

  4. 能源领域

    在太阳能电池中,铝钪靶薄膜可作为电极材料,降低薄膜的电阻率,提高电极的导电性,进而增加太阳能电池的能量输出。在电化学电池中,铝钪薄膜可增强电极的稳定性和抗腐蚀性,延长电池的使用寿命。

  5. 医疗领域

    铝钪靶生成的薄膜涂层具有优异的生物相容性和耐腐蚀性,适用于医疗植入物表面,如骨科植入物和心血管支架等,可有效提升植入物的抗磨损性能,延长其使用寿命,减少二次手术的风险。


技术特性

  • 纯度

    纯度

    99.9%-99.99%

  • 配比

    配比

    可定制比例

应用场景

  •  半导体制造

    半导体制造

  • 显示面板与触控屏技术

    显示面板与触控屏技术

  • 光伏行业

    光伏行业

  • 光学器件制造

    光学器件制造

  • 装饰与功能镀膜

    装饰与功能镀膜

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