钛靶材作为物理气相沉积（PVD）技术的核心材料，通过其高纯度与精密结构控制，正深度赋能半导体、显示与医疗等战略产业。其技术突破集中体现在材料性能优化、制造工艺革新与应用场景拓展三大维度。

在性能层面，钛靶材通过原子级纯度控制与微观结构调控实现技术领先。半导体级产品纯度达5N6N级别，杂质含量从ppm级降至ppb级，有效避免电迁移失效。密度控制达4.506-4.51g/cm³理论值，配合≤50μm晶粒尺寸，满足EUV光刻对薄膜平整度的严苛需求。

钛靶材的优异特性

• 良好的力学性能

  钛具有高的强度和低的密度，因此钛薄膜在许多结构性应用中具有优越的力学性能。

• 耐腐蚀性

  钛在许多化学环境中具有很好的耐腐蚀性。钛薄膜在海水、酸碱介质等环境中可提供有效的防护。

• 高温稳定性

  钛在高温下具有良好的稳定性，因此钛薄膜在航空航天、核能等高温领域具有广泛的应用。

• 装饰性

  钛可以形成各种颜色的氧化膜，具有良好的装饰性。钛薄膜应用于珠宝、眼镜、钟表等产品的表面处理。

• 高电阻率

  纯钛的电阻率显著高于常用金属导体（如铜、铝）。约 42.0 × 10⁻⁸ Ω·m (420 nΩ·m) (室温下)。具体值受纯度影响极大，高纯度（如4N5）有助于降低电阻率。杂质（尤其是间隙元素O、N、C）会显著增加电阻率。

钛靶材的广泛应用

1. 半导体制造

   铜互连的“守护神”：作为阻挡层 ，阻止铜原子侵蚀硅芯片；作为粘附层，确保铜线与底层紧密结合。芯片制程越先进（7nm, 5nm, 3nm…），对钛靶纯度与薄膜质量要求越苛刻，直接关乎芯片良率与性能！

2. 显示面板

   ①在TFT阵列中充当电极组分（如Mo-Ti）或关键欧姆接触/粘附层。

   ②为ITO透明电极提供强力附着“地基”。

3. 光伏行业

   高效电池背接触层与粘附层的优选

4. 光学器件制造

   沉积高纯钛膜或二氧化钛(TiO₂)膜，用于镜头增透膜、滤光片、光催化自洁玻璃等，纯度决定光学性能极限。