氧化钛靶材是一种以高纯二氧化钛为主要成分，经热压烧结或冷等静压等工艺制备而成的陶瓷靶材。其具有高硬度、高熔点（约 1855℃）、化学稳定性好等特点，是磁控溅射制备光学薄膜、功能薄膜的重要材料。

氧化钛靶材(TiOx)的优异特性

• 高纯度保证薄膜质量

  氧化钛靶材常用纯度 ≥ 99.9%，杂质含量极低，能有效减少薄膜缺陷，提高光学和电学性能稳定性。

• 优异的化学稳定性

  耐酸碱腐蚀，在高温、高湿等恶劣环境中依然保持性能不变，延长薄膜寿命。

• 出色的光学性能

  具有高折射率和优良透光率，能够制备高性能光学膜层，适用于防反射膜、增透膜等领域。

• 致密均匀的微观结构

  采用先进成型与烧结工艺，使靶材颗粒细致均匀，成膜速率稳定，薄膜厚度一致性好。

• 良好的机械强度与耐热性

  熔点高达约 1855℃，在高功率溅射条件下不易开裂或破损，适应长时间连续生产。

氧化钛靶材(TiOx)的广泛应用

1. 光学器件制造

   制备高折射率薄膜，用于光学镜头、防反射膜（AR Coating）、增透膜、滤光膜等，提高透光率与成像质量。

2. 光伏行业

   作为透明导电膜（TCO）的保护层或功能层，提高光吸收效率与器件稳定性，广泛应用于太阳能电池和光催化薄膜制备。

3. 半导体制造

   用作介电层、保护层薄膜和绝缘层材料，提升芯片及电子器件的稳定性与绝缘性能。

4. 低辐射（Low-E）节能玻璃

   作为功能层材料，改善玻璃的隔热与透光性能，减少能耗，广泛用于建筑节能领域。