产品中心
Product Center
名称：镍靶材(Ni)中文名：镍靶材(Ni)成型工艺：真空熔炼纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：半导体制造、磁性薄膜、装饰镀膜、光伏行业查看详情
名称：铟靶材(In）中文名：铟靶材(In）成型工艺：浇铸纯度：99.99%-99.999%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：半导体制造、光伏行业、装饰与功能镀膜、显示面板查看详情
名称：钽靶材(Ta)中文名：钽靶材(Ta)成型工艺：熔炼纯度：99.99%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：半导体制造、光学器件制造、硬质涂层与装饰涂层、电子元器件查看详情
名称：硅靶材(Si)中文名：硅靶材(Si)成型工艺：喷涂、烧结、长晶纯度：99.99%-99.999%产品规格：平面靶材、旋转靶材应用场景：光学器件制造、半导体制造、传感器制造、人脸识别查看详情
